在一些电镀镀金厂里，磁控溅射镀膜（英语：magnetron sputtering）是在溅射的基础上，运用靶板资料本身的电场与磁场的相互电磁交互作用，在靶板附近添加磁场，使得二次电子电离出更多的氩离子，添加磁控溅射镀膜功率。
磁控溅射镀膜分为平衡式与不平衡式。这种技能应用于资料镀膜。其间高功率脉冲磁控溅射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) 或 high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近期运用较为遍及。
在二极溅射中添加一个平行于靶外表的封闭磁场，借助于靶外表上构成的正交电磁场，把二次电子捆绑在靶外表特定区域来增强磁控溅射镀膜电离功率，添加离子密度和能量，然后完结高速率溅射的进程。
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（不锈钢项圈、不锈钢戒指、不锈钢手镯、不锈钢耳饰等一些不锈钢/钛钢饰品）
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